富士胶片树脂

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半导体树脂
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东盟地区论坛

广泛阵列的高分辨率成像系统,用于193 nm曝光,包括正干和浸没成像和负色调显影(NTD)•高通量•优越的分辨率•宽工艺窗口•

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半导体树脂
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KRF.

特点和优点GKR系列是正音调KRF光致抗蚀剂系统,涵盖各种应用。•非PFOS / PFAS材料•高纵横比应用•较强的等离子体蚀刻和离子植入抗性•......

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半导体树脂
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我系列

广泛的中紫外光敏感光刻胶系列,适用于关键到非关键的应用,包括在各种基底上的sub-0.30µm到>1.0µm的分辨率,并且具有很大的厚度范围。产品概述•

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封装树脂
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抵制系列

多系列负色调,聚异戊二烯基抗蚀系统适用于各种基材上的广泛投影,接近和接触成像和湿蚀刻需求

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半导体树脂
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FE系列

FEP系列产品适用于需要电子束曝光的正色调成像的广泛应用。必威体育app官方下载沼泽……

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半导体树脂
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富士的化学放大PBO产品可靠性高,拥有成本低。必威体育app官方下载•高对比度,积极作用材料基于PBO化学•Photo-imageable使用g-line, i-line或宽带曝光工具……

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半导体树脂
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LTC 9300系列

富士的溶剂可显影聚酰亚胺是一个家族的照片可成像聚酰亚胺前体,涵盖高和低固化温度的分布层(RDL)和缓冲涂层应用。•负作用,溶剂可显影…

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保护树脂
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Durimide®20系列

富士有几种非光敏聚酰亚胺配方,用于各种半导体和相关应用。•最终涂层厚度从400埃至25微米•低温固化选项•极低收缩•

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