半导体树脂我系列

光敏

广泛的中紫外光敏感光刻胶系列，适用于关键到非关键的应用，包括在各种基底上的sub-0.30µm到>1.0µm的分辨率，并且具有很大的厚度范围。抗蚀剂系列设计用于非反射基板上苛刻的关键CD (<350 nm)打印:抗蚀剂系列设计用于要求苛刻的关键CD (350 nm CD)图案的反射基板:•GiR 674系列•GiR 1102系列•GiR 2201系列•多用途高分辨率i-Line抗蚀剂系列，提供最快的光速选项，高吞吐量，高分辨率(>500 nm CD)和强大的图案:•OiR 305系列•OiR 366系列•OiR 906系列•OiR 907系列•Multi-purpose Cross-over g- and i-Line resistance抗蚀剂系列提供非漂白，高光密度CD和刻痕控制的高反射基板:•FHi-560EP•GiR 3114•OiR 305•OiR 908•HiPR 6500GH•HiPR 6500HC•i-Line resistance for更厚的应用