PVD沉积机RTSP1300-R2R

磁控溅射 离子beam-assisted 硅薄膜

我们很高兴地提出我们的多网系列辊对辊真空溅射网镀膜机，以满足您的多层沉积要求。MultiWeb涂布机具有以下主要特点:A.一个室分为多压力区，以适应各种沉积源。B.多源同时沉积能力在一个网孔，用于多层涂层。C.可逆性卷筒纸缠绕方向，可在不破坏真空的情况下沉积无限层。带边导的精密卷筒纸处理机构，允许多次通过而不丢失对中。(可选)E.交流变频网页驱动系统，可精确控制多种网页速度。在线光学和/或电阻厚度监测系统，以控制精确的沉积厚度和均匀性。(可选)G.腔体采用SUS304L不锈钢结构，低排气元件，确保更深的真空。H.结合涡轮-分子泵和低温低温，提供无湿气或油污染的清洁真空。沉积电影1。 Substrate material: PET, PEN, PES, PI, PC, PA, TAC… Films 2. Substrate thickness: 15~300μm 3. Deposition methods: AC Reactive for SiO2(Dielectric); Pulsed DC for ITO (Metal & Conductor) 4. Oxide conductor TCO: ITO, AZO, IZO… 5. Metal conductor: Al, Cu, Mo, Ag… 6. Optical film: Ta2O5, Nb2O5, SiO2, TiO2… 7. Semiconductor: ZnO, InGaZnO… 8. Insulator: SiO2, SiNx, AlOx, AlNx… 9. Uniformity: ±5% Across Web Applications: electronic paper, flexible circuits, photovoltaic, medical strips, RFID (Radio Frequency Identification) and Low-E film, ITO thin film coatings