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SC-CSZ8000E-16F
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·单晶批量纹理设备设备型号·SC-CSZ8000E-16F设备应用·用于纹理和清洁单晶晶圆。处理步骤·锯损伤→预清洁→单声道纹理→后清洁→酸清洁→热水干燥→干燥(仅供参考)特点·吞吐量:400pcs / batch,8000pcs / h。·工艺浴缸循环量可调。·均匀金字塔纹理,蚀刻深度可调。·晶圆厚度处理能力高达120μm·用干净的干燥区域和自洁干系统。·H2O2免费。·快速内联浴缸变化。·可用MES,RFID系统,内联体重测试可选。
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