在微电子和半导体工业的检查、过程控制或缺陷和失效分析中的速度问题。你越快发现缺陷,你的反应就越快。在大视场下,dm3xl检查系统可以让您的团队更快地识别缺陷,提高成品率。利用独特的宏观目标增加30%的视野。看得多,工作得快。为了快速扫描高达6英寸的大型组件,dm3xl提供了一个独特的宏观目标。它的放大倍数为0.7倍,一次可捕获35.7毫米的视场,比其他传统扫描物镜多30%。缺陷的宏观目标,不要机会:•-增加你的收益率•内可靠地检测发展优势不足或晶圆的中心•——检测径向膜厚度不均匀导致所有对比方法的DM3 XL使用LED照明的对比方法。LED照明提供恒定的色温,并在所有强度水平上提供真实的彩色成像。led具有长寿命和低功耗,还具有巨大的成本节约潜力。 Optical high performer With the DM3 XL, you can benefit from optical excellence at an affordable price. • - Examine sides, edges or chippings with oblique illumination: illuminate your sample from different angles as an easy and effective way to visualize topographies.