陶瓷真空吸笔

对于下一代光刻和晶圆处理应用来说，我们的超纯陶瓷组件确保最小的污染，并提供特别长的寿命性能。耐化学侵蚀和热稳定性，我们的高纯度陶瓷组件是光刻加工，晶片处理(低污染)和晶片检测(极端耐用和硬度，尺寸稳定)的理想选择。应用程序包括:光掩模基片晶盘晶台组件晶表推荐光刻和晶片检测材料高纯氧化铝超净™再结晶碳化硅CoorsTek掩模基片由高纯度合成石英玻璃制成，提供优越的紫外线和可见光透过率，热稳定性，电绝缘，低双折射，持久的化学稳定性。先进的、可扩展的抛光技术使这些掩模基片成为从晶圆到大型平板显示器(FPD)的微观图案的理想选择。