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PVD沉积机RTA
磁控溅射 电弧蒸发 薄膜

PVD沉积机
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特征

方法
PVD
技术
磁控溅射,弧蒸发
沉积类型
薄膜,金属化膜,类似钻石的碳
其他特征
真空,短周期
申请
对于食品行业

描述

MF/DC Magnetron溅射沉积设备,PVD溅射在餐具上,不锈钢电子组件摘要:PVD ARC蒸发与MF溅射技术完美结合,生成高端质量功能和美学涂料在产品表面上。必威体育app官方下载为什么要溅射MF?与直流和RF溅射相比,中频溅射已成为一种主要的薄膜溅射技术,用于大规模生产涂层,尤其是在介电和非导电膜涂层的膜沉积中,例如光学涂料,太阳能电池板,多层层,多个层,复合材料膜等。它因使用KHz而不是MHz操作而取代RF溅射,以更快的沉积速率,并且可以在复合薄膜沉积(如DC)中避免靶中毒。MF溅射目标始终存在两组。两次阴极与AC电流之间来回切换,它们在每次逆转的情况下清洁了目标表面,以减少导致弧形的电荷积累,从而导致弧形,这可以将液滴喷射到血浆中并防止均匀的薄膜生长-------这就是我们所谓的目标中毒。使用MF溅射系统,我们可以获得石墨颜色,实验室数据:(L:30〜35)。A:-0.04,b:08关键词:消费电子PVD装饰涂层,不锈钢餐具PVD装饰,高词汇表PVD涂层,指示涂层,指圆环黑色电镀,医用仪器DLC涂料,腐蚀和磨损阻力PVD PVD膜,高真空化金属摄像机。

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*价格是税前的。他们排除了送货费和海关职责,不包括安装或激活选项的额外费用。价格仅是指示性的,并且可能因国家而异,而原材料和汇率的成本也会变化。