氧化炉vf - 3000
输送机 内阁 控制大气

氧化炉
氧化炉
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特征

函数
氧化
配置
输送机、内阁
大气
控制大气
其他特征
实验室

描述

这种价格低廉的垂直炉配备了自动输送机,可用于从研发到批量生产4- 8英寸晶圆片的一系列功能。我们已经实现了如此低的价格,以至于后端用户可以引进这种炉。超高温处理是可行的,最适合于动力器件的制造。后端用户低成本设备50到75晶片处理研发可以大规模生产行4 - 8英寸晶片大小可用Max 4盒库存良好的温度控制从低到中等高温度范围使用LGO加热器高速晶片传送使用单一晶片处理机器人配备功能有限的简单控制系统
*价格是税前。它们不包括运费和关税,也不包括安装或激活选项的额外费用。价格只是指示性的,可能因国家而异,原材料成本和汇率会有所变化。