XY理论体系

rotativo 一个激光 一个真空

8 Estação半导体的Bolacha Indexador的estações Este sistema foi项目具体的过程的feixes的íons的2″ou 3″晶圆半导体的温度elevadas。该系统可精确控制posição对8个晶圆片进行加工。Os wafers são girados para o aquecedor e serão aquecidos em questão的segundos antes的过程做的feixe de íons posa começar。一个温度é控制它的大小pirómetro óptico是lê一个温度superfície它的大小。Uma grande porta de acesso permite conexão da instrumentação do feixe de íons。O forno é um sistema completo chave na mão com um sistema de vácuo, sistema de gás惯性，伺服控制indexação，控制的温度e friamento água。