estaplataformaéumaplataforma planarhíbridamecânico/ar do rolamento desticada para para para pisar e fazer a varredura deaplicações。éumaplataforma de 6 Machados Que Move-Se Em Sentidos de X,de Y,de Z e de Teta。nivelamentodinâmicosobre o curso culso compleso assim como repetibilidade bidiredeciareéparâmetroschaves。estaplataformaéusadaadualmente dentro:-aplicações控制de Processos da bolacha tais como adimensãocríticae Metrologia do filme fino。-Risco da Bolacha -recozimentotérmicodo laser da bolachapôdeigualmente ser usado ser usado ser usado no da linhamáquinasda litografia(AlinhadoresdaMáscara)Esta plataforma caracteriza: - Nivelamento do movimento dado pelo rolamento de ar - Rotação ilimitada na teta - Integração dobro de Z: Curso grosseiro para carregar/que descarrega e curso fino para o adjustement do foco - Buit-no compensador da gravidade em Z (patentependente) - A correção da guinada pode ser feita levemente deslocando os motores Y1 e Y2 - Pode mais ser integrado com um sistema ativo do isolamento controlado inteiramente por ETEL - Os cursos em X e em Y podem ser feitos mais por muito tempo com algumas limitaçõesNo desempenhoespecificaçõesprincionais:-Curso Total:320Milímetrospara X12XyMilímitroPara Z -Velocidade:1,2 m/s para xy,0,1 m/s para Z para z e 15,7 rad/s para para para para para para para t -aceleração:1Aceleração:1Aceleração:1,2 g para xy,0,2 g Para Z E 104,7 rad/s2 para t -estabilidade daposição:±25nanômetropara xy,arcsec±15nanômetropara z e±0.2 para para para para para t- repetibiridade bidibiridade bidiridade bidiriridade bidiriridade bidiriridade µm±0.4 µm±0.4 µm±0.4xy,µm±0.3 para z e arcsec±2 para t para t
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