descriçãoumeletrodo de plasma dc de duas linhaspatenteadoéusadopara evitar anévoade tinta。Este Eletrodo de plasma Age Syparademente Em Ambos OS Fluxos departículase garanteumdepósito理想departículas。BarraéConectadaao gerador dealtaTensãoHsg61。o sistema misting tackerénualmenteUtilizado para Impressument em y em em em Unidades de Revestimento de Silicone(Polytype)。o sistema misting tacker mts20 foi concebido para reduzir anévoade tinta no nip deImpressão /aplicaçãodasunidades deImpressãoerevestimento。Barra de plasma dc dupla patenteada r170a3 transmite cargas saparadas para os fluxos departículas,garantindo uma uma umasapeaçãoóptimadaspartículas。Os benefícios: - depósito completo de partículas na superfície do rolo ou no substrato - consumo reduzido de tinta e revestimento - menos poluição do ambiente - óptimos resultados de impressão/revestimento com as mais altas velocidades de processamento e os mais baixos custos de manutenção - menosEsforçodeManutenção
---