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PVD沉积机Nexus PVD-1
热蒸发
薄膜
用于光电子
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特征
- 方法
- PVD.
- 技术
- 热蒸发
- 沉积类型
- 薄膜
- 应用程序
- 用于光电子
描述
Veeco的Nexus PVD-1是单晶片物理气相沉积系统。它是多种应用程序的多功能，易于使用的工具。它保证了在任何操作期间都能简单，可靠性和性能。该系统可以定制到多个数据存储应用，如氧化物和氮化物沉积和各种磁性材料。它可以用各种晶片尺寸和用于半导体，GaAs和包装应用的高性能，高性能的工具购买。这种物理气相沉积系统可以容易地成形，以满足特定的工艺和生产要求。它支持从3“到8”圆的不同晶片尺寸。整个包装包括阴极，晶圆卡盘，燃气歧管，百叶窗和泵送套件。它设计用于与Nexus离子束蚀刻，离子束沉积和其他物理气相沉积工具简单快捷的集成。提供的模块化简化了操作员和维护培训请求以及备用部分库存。
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