PVD沉积机泰坦沉积
PECVD. 静电 真空

PVD沉积机
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特征

方法
PVD,PECVD,静电
其他特征
真空

描述

生产经过验证的泰坦沉积是一种带有真空盒式电梯的负载锁定沉积系统。它可以配置为PECVD,HDCVD,PVD或ALD。Titan Secosition以实惠的价格提供创新,并以小型占地面积提供创新和前沿进程。已经开发了标准生产过程,用于可重复沉积SiOx,Sinx,SiC和A-Si。全部由超过25年的快速流程开发经验。系统特点:PLC和触摸屏控制静电,或机械卡盘主动衬底温度控制真空盒式电梯可选激光,以及光学终点

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*价格是税前。它们排除了运费和关税,并不包括安装或激活选项的额外费用。价格仅表明,可能因国家而异,改变原材料和汇率的成本。