真空涂层系统G4000MR.

应用G4000MR真空涂层系统是一种生产级涂布机，用于在包括天文主镜的大型光学制品上生产均匀的反射和保护涂层。沉积工艺的涂布机和技术配置的工程和技术配置专门用于工艺直径高达4米的制品，小软件控制的磁控管沿着可调速度的计算路径移动。磁控运动速度和镜子转速匹配以实现均匀均匀的涂层厚度。镜子面朝下定位并在循环期间旋转多次。G4000MR旨在沉积铝，银和其他金属的反射涂层。反射涂层顶部的氧化硅层可确保涂层叠层的耐磨性保护特征。在涂覆沉积之前，镜面是用可移动的离子源进行等离子体处理，以确保良好的粘合性。用金属和反应性磁控溅射工艺沉积涂层。圆形磁控管用脉冲-DC电源供电。基于包含石英晶体谐振器的装置用于控制生长薄膜的沉积速率。 The vacuum required for coating is ensured by refrigerator cryo-pumps and a turbo pump connected to Roots blower and dry compressing pumps. The control system ensures fully automated process. The coater and coating process can be customized to the requirements of the respective customer. Data Sheet Substrate: large-size astronomical glassceramic mirrors Substrate diameter: up to 4 m Number of substrates: 1 pc.