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晶片计量系统XHEMIS ex - 2000

晶片计量系统
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特征

类型
对于晶片

描述

XRR和光谱仪测量工具毛毯200 mm晶圆厚度、密度、粗糙度和电影的组成对毯子晶圆这个多才多艺的x射线计量工具使用x射线荧光光谱仪和x射线反射率(XRR)高通量无损测量的厚度和密度的毯子晶圆从超薄单层到多层堆栈过程开发和电影质量控制。用于大批量生产XHEMIS ex - 2000是专为大容量200 mm晶圆制造。突出舞台对齐前测量可以更加迅速、准确地测量各种晶片样品。高度准确的阶段控制使full-surface映射在短时间内测量。用户友好的设计工具配备一个传输机器人时,XHEMIS ex - 2000可以自动处理晶片。AutoCal(一个自动校准函数)保持恒定的工具条件。用户友好的软件使工具操作和数据分析简单。这个工具可以用于各种各样的应用程序从研发到生产的质量控制。广泛的材料和应用程序同时评价膜厚度、密度和粗糙度高通量XRR晶片绝对测量结果(不需要校准标准)整片映射和高速光谱仪测量的分辨率和精度高覆盖厚度从埃到微米接受200毫米,150毫米,125毫米和100毫米晶圆可以自动校准功能

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