激光扫描系统VS-SECM

电化学

SECM集成了一个定位系统、一个双电位器和一个超微电极探头或尖端。定位系统将探针移动到靠近样品表面的局部成像区域内。双恒电位器可以只使探针极化(反馈模式)或样品和探针独立极化(发电机-集电极模式)，同时测量产生的电流。探针是专门设计的，具有特定的锥形抛光(根据RG比率)和活动半径小于100微米。定位系统扫描探针并根据测量的电化学参数绘制位置图，创建本地电流数据图。接近曲线(反馈模式)被用作电化学手段，通过它将探针定位在距离样品足够近的Z，从而在局部成像区。一个直流电压加到探头上，当探头向样品方向增加时，直流电流响应被绘制出来。当探针足够接近样品(探针直径的2-4倍的距离)时，尖端的测量电流从整体响应过渡到局部响应。在高导电性区域内，能态响应提供了比本体电流增强的局部电流。然而，在样品导电性较低的区域，由于对探头的质量传输受到阻碍，局部电流相对于体积值有所降低。