金属抛光机“HC毅联汇业

刷 连续

“HC”容器≤OEB5可洗型，专利系统保证了优异的抛光性能，适用于剧毒药物，避免了操作员和生产车间的污染。专利≤OEB5 WIP/WOL抛光和金属检查- SMEPAC测试和ATEX认证的压力监测故障安全阀和压力衰减，所有胶囊4型标高高度从1000毫米到2200毫米fda批准的轻型组件处理和清洗符合人体工程学，高效，坚固，可靠无交叉污染风险-易于验证的中央HMI，符合OPC UA, CFR 21 Part 11当生产或计划生产高效药物时，需要一个高隔离单元来保护操作者和他的环境。我们提供了一个完整的终端概念，具有所有需要的高密封连接。我们的iCaps“HC”可清洗单元确保OEB5高遏制级别。这种溶液允许在生产批次结束时清洗设备。在抛光机的浸水过程中，用刷子旋转去除表面的粘粉。这保证了在拆卸设备之前，所有挥发性粉尘都被清除。压力衰减系统允许在开始生产工艺前验证设备的密封性。这个自检系统对设备进行真空处理，并验证整个系统中没有泄漏。 Continuous pressure monitoring verifies that the equipment is always under negative pressure, preventing dust particles from escaping into the production environment. If a problem is detected, the system automatically changes the valve status to create a safe environment for the operator.