用于半导体工业的光刻系统JetStep®G45

JetStep G45系统满足移动显示行业的苛刻要求。基于现有的步进技术，该系统结合了优化的性能和优越的拥有成本。产品概述JetStep G45系统的尺寸为200mm。低失真光学结合高速精密运动使系统实现覆盖<0.5μm。JetStep G45系统放大光学允许使用6英寸的网线(掩模)，与竞争对手的技术相比，大大降低了加工成本。此外，该系统占地面积小，最大限度地降低了设备成本，无摩擦运动减少了磨损，降低了维护成本。综合节省导致了一个负担得起的制造过程，减少资本支出和低拥有成本(COO)。规格•高保真投影镜头和照明系统，分辨率为1.5微米•行业标准6英寸标线格式，具有成本效益的制造•自动放大控制增加工艺窗口•机载标线管理系统，以提供最大利用率•机载计量包，用于现场校准•在每个曝光地点自动对焦，自动调整面板拓扑的焦点•机载诊断，提供系统反馈性能和故障排除