接触角测量仪器Surftens HL

过程 对于半导体行业

SURFTENS HL-半导体技术中的专业晶圆测试该接触角surftenshl设计用于半导体行业和研究，特别是用于晶圆涂层和光刻过程的过程控制。它的特征是以下特征：快速，轻松测量接触角，节省空间的构造特殊桌子构造，以快速映射晶圆软件上的接触角度分布，并具有直观操作的舒适文档，舒适的测量文档导致协议和视频图像中的测量结果，如果需要通过WU / OWRK理论计算自由表面能量，则与笔记本电脑或PC Surftens HL的可选使用 - 应用硅晶片的润湿行为的修改是半导体技术的标准过程步骤。用于过程表征，调整技术参数和生产控制。因此，绝对有必要在修饰过程之前和之后，客观，准确地测量接触角和表面自由能。为此，需要坚固且易于使用的接触角度测量仪器。Surftenshl的开发是为了满足半导体技术的需求，研究工作很简单，在短暂的培训后对每个人都有可能。手动操作确保了有吸引力的价格。因此，在标准过程控制以及研究和开发中都使用了Surftenshl。