我们用Czochralski方法生长实验室尺寸晶体的成本最低的炉是我们的电弧熔体炉TA-200,具有晶体生长选项。该选项增加了用于半导体材料(硅、锗和砷化镓)、金属、盐和合成宝石的单晶生长的所有组件。该炉采用三道电弧,可熔化3500°C以上的材料。附着在种子棒上的水晶种子,然后降低到2″(50毫米)坩埚中,容纳熔体。控制程序是用来拉生长中的晶体的。拉拔速度可调,控制精确,低至0.001 mm/min。一个单独的电机提供旋转3/8“种子杆,最大拉力高度为7″(176毫米)。底部坩埚还可配备旋转电机。