Zeiss Xradia 510 Versa具有突破性的3D亚微米成像系统,灵活地打破了该X射线显微镜的一个微米分辨率屏障,用于3D成像以及原位/ 4D调查。使用分辨率的组合和对比度的灵活工作距离来延长实验室中无损成像的功率。从其架构中受益,该架构利用两级放大技术实现距离(RAAD)的亚微米分辨率。降低几何倍率的依赖性即使在大的工作距离也保持亚微米分辨率。亮点即使在源的大型工作距离距离源 - 从毫米m到厘米。对软或低Z材料进行3D成像,具有先进的吸收和创新相位对比度实现了柔性工作距离的世界领先的分辨率,超出了基于投影的微型CT解析子模尺寸的各种样本尺寸的潜在尺寸的功能,延伸了非破坏性成像在您的实验室中,使用原位/ 4D解决方案调查当地人的环境中的材料随着图像质量的时间吞吐量