压力与集成电路放大器发射器

压力范围:0 - 60条
过程的温度:-40°C - 125°C

的压力发射机DMP 331可以使用在所有的工业领域中与不锈钢兼容1.4404(316升)或1.4435 (316 L)。另外也不同的弹性体密封……

压力范围:1 - 20条
过程的温度:-40°C - 100°C

…微分压力发射机DPT 200特别为流程工业设计,可用于水平测量封闭、加压坦克、泵、过滤器控制等。…

压力范围:0条- 400条
过程的温度:-25°C - 125°C

…316 l。的模块化概念压力发射机允许定制的电气或机械连接,所以很容易适应DCT 531不同的现场条件。特点:-名义…

压力范围:0条- 400条
过程的温度:-25°C - 125°C

…316 l。的模块化概念压力发射机允许定制的电气或机械连接,所以很容易适应DCT 532不同的现场条件。特点:-名义…

压力范围:0条- 400条
过程的温度:-40°C - 125°C

…的证明压力发射机DMP 331 / DMP 333,即DCT 533适用于几乎所有的工业应用,如果介质兼容不锈钢316 l。模块化的……

压力范围:0条- 600条
过程的温度:-40°C - 125°C

的压力发射机DMP 321是一致的进一步发展我们在许多应用程序中批准DMP 331。它显示了一种改进的信号行为和设置新标准在工业类……

压力范围:0条- 600条
过程的温度:-40°C - 125°C

…≤0.5毫秒的响应时间和10 kHz的采样率压力发射机设计应用程序,非常快速和准确吗压力测量是必需的。…

压力范围:0条- 600条

这个过程压力发射机XMP我特别为流程工业设计和措施真空计和绝对的压力范围的气体、蒸汽、液体和灰尘…

压力范围:0 - 20条
过程的温度:-25°C - 125°C

这个过程压力发射机XMP ci测量压力气体、蒸汽、灰尘和液体。专门的陶瓷电容传感器发射机已经……

压力范围:0 - 40条
过程的温度:-40°C - 300°C

精确的压力发射机x |我特别设计用于食品工业,制药和生物技术和措施真空计和绝对的压力气体、蒸汽和…

压力范围:0 Pa - 200000 Pa
过程的温度:-20°C - 70°C

微分压力发射器的982 r系列是用来测量微分压力、超压和真空。他们提供了一个可调压力…

压力范围:-100 Pa - 100000 Pa
过程的温度:-20°C - 70°C

微分压力发射器985系列是用来测量微分压力、超压和真空。他们提供8压力…

压力范围:5000 psi
过程的温度:350°C

…可以测量压力和温度。本产品内置的放大器电路板和80%分流校准,零和跨度可调,输出信号可以直接输入PLC。…

压力范围Pa: 0
过程的温度:-20°C - 60°C

N-JB压力发射机工作的媒介,可以有易燃粉尘或甲烷接触,如矿山。我M1 ia交货和II1G前任ia IIB T4 Ga版本已经批准的实验室……